Фотополимерные пластины Iwahashi MX II 145, Япония.
Макс. температура: 140°С.
Характеристики: Требуются матированные негативы, УФ экспонирование, вымывание обычной водой, вентиляция и пост-экспонирование УФ лучами для повышения твердости.
Современный уровень изготовления фотополимерных клише для горячего тиснения и конгрева — это экологическая безопасность, простота, скорость изготовления, высокое воспроизведение, тиражестойкость и стоимость. Фотополимерные пластины для изготовления клише для горячего тиснения Iwahashi используются для изготовления резиновых стереотипов, ручных штампов, тиснения и горячего тиснения фольгой, а также высокой печати.
Основные преимущества фотополимерных пластин Ивахаши для изготовления клише:
- Высокая термостойкость (до 140°С) и отличная теплопередача
- Отличная тиражестойкость, сравнимая с металлическими клише
- Быстрота и простота изготовления, не требующая химикатов или вентиляции
- Себестоимость изготовления ниже, чем у металлических клише
- Хорошее воспроизведение линий и текста
- Хорошая высота тиснящих элементов
- Гладкая поверхность тиснящих элементов
- Стальная подложка позволяет примагничивать пластины и транслировать тепло
1. Негатив для изготовления фотополимерного клише должен быть с плотностью не менее 4,0 и плотностью вуали 0,05.
2. Снять защитную пленку с пластины. Уложить негатив с изображением эмульсионным слоем вниз на непроявленную фотополимерную пластину и закрыть сверху вакуумной пленкой. Без оборудования — прижать листом прозрачного поликарбоната (стекло не пропускает ультрафиолет!).
3. Включить вакуумный насос (при наличии оборудования).
4. Установить время экспонирования фотополимерной пластины (источник света с ультрафиолетовым спектром 350-380 нм). Рекомендованное время экспонирования: 1,5 минуты.
Правильное экспонирование проверять по 21-шаговой шкале Stouffer — цельным должен остаться шаг 16-17.
5. После экспонирования снять негатив, установить засвеченную фотополимерную пластину Iwahashi на магнитную подложку водовымывного оборудования или поместить в тару для водовымывной обработки. Вымывание производится простой водой при температуре +35 °С.
6. После вымывания надо удалить излишки воды с поверхности обработанного водовымывного клише губчатым валиком.
7. Следующий этап — сушка фотополимерной пластины в сушильной секции оборудования или иным способом. Рекомендованное время сушки Iwahashi MX/MSX/MSXII — 15-20 минут при температуре 90-100°С. Время сушки может варьироваться в зависимости от толщины фотополимерных пластин.
8. Для увеличения прочности водовымывного клише рекомендуется провести окончательное (финишное) экспонирование фотополимера (постэкспонирование, дубление) и/или перейти к следующему шагу.
9. Предварительный нагрев перед использованием клише Iwahashi: предварительно нагреть оборудование до 140 °С (прикрепить фотополимерную пластину на нагреватель и нагревать как минимум 10 минут).